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氢气发生器

氢气发生
仪器型号 单位 单价(元) 流量 仪器特点
DH-300 55000 0-300ml/min 全自动控制,不存储氢气,有水位、超压的安全装置,纯度99.99999%
DH-500 68000 0-500ml/min
TH-300 8800 0-300ml/min 采用国际先进的离子膜制氢技术,无需加碱,直接电解纯水(去离子水、二次蒸馏水),优点:绝对不污染色谱的任何部件。纯度:优于99.999%,压力:0-0.4MPa
TH-500 9800 0-500ml/min
TH-1000 21800 0-1000ml/min
SPH-200 4900 0-200ml/min 体积小,重量轻,单级过滤,压力0.3MPa,自动防返碱,纯度99.999%
SPH-300A 5900 0-300ml/min 单级不锈钢过滤器,压力0.4MPa,自动防返碱,纯度99.999%
SPH-300 6900 0-300ml/min 两级不锈钢过滤器,内有微量氧脱除剂(不需活化),纯度更高,压力0-0.4MPa,0-0.6MPa两档可调,自动防返碱,纯度99.999%
SPH-500A 7000 0-500ml/min 单级不锈钢过滤器,压力0.4MPa,自动防返碱,纯度99.999%
SPH-500 8000 0-500ml/min 两级不锈钢过滤器,内有微量氧脱除剂(不需活化),纯度更高,压力0-0.4MPa,0-0.6MPa两挡可调,自动防返碱,纯度99.999%
GCD-1000 15800 0-1000ml/min 大流量,可同时带多台色谱,自动防返碱,纯度99.999%
GCD-3000 48000 0-3000ml/min 安全可靠,自动流量跟踪,用于中心实验室集中供氢,可用于石化、半导体等行业
 
GCD-6000 95000 0-6000ml/min 安全可靠,自动流量跟踪,用于中心实验室集中供氢,可用于石化、半导体等行业
 
GCD-9000 145000 0-9000ml/min 安全可靠,自动流量跟踪,用于中心实验室集中供氢,可用于石化、半导体等行业
 
注:DH-300、DH-500、GCD-3000、GCD-6000、GCD-9000氢气发生器需订制
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